因此，二氧化钛 亲水性和疏水性等离子体表面处理技术将具有广泛的发展潜力。也将成为科研院所、医疗机构、生产加工企业越来越推崇的加工技术。氧和氩都是非粘性气体。等离子体与晶圆表面的二氧化硅层相互作用后，活性原子和高能电子破坏了原有的硅氧键结构，使其变为非桥接键，使表面具有活性而活性原子的电子结合能向更高的能量方向移动，使其表面有大量的悬空键，这些悬空键以OH基团成键的形式存在，形成稳定的结构。
产生的反应分子在表面或气相环境中发生化学反应，二氧化钛亲水性机理通过沉积形成薄膜。成核过程取决于材料表面的形貌和表面上是否存在外来原子。上述工艺生产的致密薄膜是疏水的，没有孔隙。然而，为了在短时间内生产出高质量的薄膜，需要优化工艺参数，尤其是在阻隔层应用领域。硅膜可以通过将硅树脂在等离子体环境中分解并在硅原子与氧、氮或它们的混合气体反应时沉积二氧化硅、氧化硅或氮化硅膜而获得。
结果表明，二氧化钛 亲水性和疏水性等离子体催化CO2共活化CH4氧化制C2烃中甲烷的C-H键断裂主要通过以下途径发生：1。CH4与高能电子的非弹性碰撞；2.活性氧活化CH4；3.催化剂吸附CH分子，激活C-H键，使C-H键断裂。二氧化碳的转化途径如下：1。CO2分子与高能电子的非弹性碰撞；2.体系中的活性物种如CHx、H等活化CO2；3.催化剂吸附CO2分子，活化C-0键，促进C-O键断裂形成CO和活性O原子。
自由基如原子团与物体表面的反应自由基在等离子体中起着重要作用，二氧化钛 亲水性和疏水性因为这些自由基是电中性的，寿命长，并且在等离子体中比离子更丰富。自由基的作用主要表现在化学反应过程中能量传递的“活化”。被激发的自由基具有很高的能量，因此它们与表面分子结合时往往会形成新的自由基。自由基也处于不稳定的高能状态，发生分解反应，变成小分子，同时产生新的自由基。这个反应过程继续进行，最终可能分解成水、二氧化碳等。
